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產品介紹
| 品牌 | Edmund Optics |
|---|
UltraFast Innovations (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡通用規格:
直徑 (mm):
25.40 ±0.13
基底:
Fused Silica (Corning 7980)
后表面:
Commercial Polish
涂層規格:
Rs > 38% @ 65eV/19nm
涂層:
EUV Multilayer (19nm)
入射角 (°):
5
有效孔徑 (%):
80
設計波長 DWL (nm):
19
邊緣:
Fine Ground
表面粗糙度（埃）:
<1
Center Energy (eV):
65 ±2
Bandwidth (eV):
6
Supported Pulse Duration:
330 attoseconds
邊緣厚度 ET (mm):
6.35 ±0.20
| 產品編碼 | Dia. (mm) | 表面平整度 (P-V) | 基底 |
| 16-765 | 25.40 ±0.13 | λ/10 | Fused Silica (Corning 7980) |
| 16-766 | 25.40 ±0.13 | Fused Silica (Corning 7980) | |
| 16-767 | 25.40 ±0.13 | Fused Silica (Corning 7980) |
UltraFast Innovations (UFI)的極紫外光(EUV/XUV)阿秒多層反射鏡設計用于阿秒脈沖的轉向、聚焦和整形。他們的多層膜中心位于65eV（19nm），帶寬為6eV（1.8nm），為 S 偏振光提供38%的峰值反射率。這些反射鏡支持持續時間為330阿秒的極紫外（EUV）脈沖。 UFI極紫外（EUV/XUV）阿秒反射鏡是基于高次諧波（HHG）、自由電子激光器（FEL）或其他量子光學應用產生和整形阿秒脈沖的理想選擇。
UltraFast Innovations (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡原子般精密的離子束沉積可以獲得原子般光滑的鍍膜。這些反射鏡能夠在不斷增長的應用空間中高效精確地控制波長和光譜相位。亞秒科學突破了超快激光器的極限，提供了接觸一些最基本的科學過程的機會，如：電子的運動。極紫外（EUV）反射鏡也被稱為XUV/軟X射線反射鏡。極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡背后的物理原理是來自多層膜堆疊的每個界面反射和散射 EUV 輻射的干涉。可提供直徑為25.4mm的平面反射鏡和凹面反射鏡；如果您的應用需要定制中心能量、帶寬或其他規格的極紫外（EUV）多層反射鏡，請與我們聯系。
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