超快極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡

簡要描述：UltraFast Innovations (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡
設計用于65eV（19nm）下的 330 阿秒脈沖
具有38%峰值反射率的多層鍍膜
≤1Å 表面粗糙度超拋光基底
另外提供專為 13.5nm 設計的極紫外（EUV）平面反射鏡和極紫外（EUV）球面反射鏡
備有現貨庫存
無最小起訂量、無鍍膜批次費用

產品型號：
廠商性質：經銷商
更新時間：2024-11-28
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產品介紹

品牌	Edmund Optics	價格區間	面議
組件類別	光學元件	應用領域	綜合

UltraFast Innovations (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡

設計用于65eV（19nm）下的 330 阿秒脈沖

具有38%峰值反射率的多層鍍膜

≤1? 表面粗糙度超拋光基底

另外提供專為 13.5nm 設計的極紫外（EUV）平面反射鏡和極紫外（EUV）球面反射鏡

備有現貨庫存

無最小起訂量、無鍍膜批次費用

通用規格

直徑 (mm):

25.40 ±0.13

基底:

Fused Silica (Corning 7980)

后表面:

Commercial Polish

涂層規格:

Rs > 38% @ 65eV/19nm

涂層:

EUV Multilayer (19nm)

入射角 (°):

有效孔徑 (%):

設計波長 DWL (nm):

邊緣:

Fine Ground

表面粗糙度（埃）:

Center Energy (eV):

65 ±2

Bandwidth (eV):

Supported Pulse Duration:

330 attoseconds

邊緣厚度 ET (mm):

6.35 ±0.20

型號

產品編碼	標題
#16-765	25.4mm Dia., 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Flat Mirror
#16-766	25.4mm Dia. x 250mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror
#16-767	25.4mm Dia. x 500mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror

詳細資料

UltraFast Innovations (UFI)的極紫外光(EUV/XUV)阿秒多層反射鏡設計用于阿秒脈沖的轉向、聚焦和整形。他們的多層膜中心位于65eV（19nm），帶寬為6eV（1.8nm），為 S 偏振光提供38%的峰值反射率。這些反射鏡支持持續時間為330阿秒的極紫外（EUV）脈沖。 UFI極紫外（EUV/XUV）阿秒反射鏡是基于高次諧波（HHG）、自由電子激光器（FEL）或其他量子光學應用產生和整形阿秒脈沖的理想選擇。

原子般精密的離子束沉積可以獲得原子般光滑的鍍膜。這些反射鏡能夠在不斷增長的應用空間中高效精確地控制波長和光譜相位。亞秒科學突破了超快激光器的極限，提供了接觸一些最基本的科學過程的機會，如：電子的運動。極紫外（EUV）反射鏡也被稱為XUV/軟X射線反射鏡。極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡背后的物理原理是來自多層膜堆疊的每個界面反射和散射 EUV 輻射的干涉。可提供直徑為25.4mm的平面反射鏡和凹面反射鏡；如果您的應用需要定制中心能量、帶寬或其他規格的極紫外（EUV）多層反射鏡，請與我們聯系。

技術數據